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SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機概述：兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版...

SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統概述：兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版...

SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機：兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。NAN...

LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統概述：兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩...

LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統概述：兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和...

NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統產品概述：該系統為全自動上下載片，并且通過計算機全自動實現工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統，系統具有結構緊湊...

NPC-4000（M）等離子去膠機（刻蝕機）概述：NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻...

NIE-3000離子束清洗系統產品概述：該系統為手動放片取片，但通過計算機全自動實現工藝控制的臺式離子束刻蝕系統，系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊...

NPC-3500（M）等離子去膠機(刻蝕機)概述：NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻...